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真空镀膜和光学镀膜的区别是什么?

2019-09-30

一、概念上的差异



   1.真空镀膜是一种在高真空条件下加热金属或非金属材料,在电镀件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发浓缩形成薄膜的方法,如真空镀铝、真空镀铬等。


真空镀膜   2.光学镀膜是指在光学零件表面镀一层(或多层)金属(或介质)薄膜的过程,在光学零件表面涂覆的目的是减少或增加反射、光束分离、分色、滤波、极化等,常用的镀膜方法是真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。


二、原理的区别



   1.真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是一种以真空技术为基础,采用物理或化学方法,吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产薄膜提供新的工艺。简单地说,是一种在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物的方法,使其凝固并沉积在涂覆物(称基板、基片或基体)上。



    2.光学干涉被较多应用于薄膜光学中,光学薄膜技术的常用方法是用真空溅射在玻璃衬底上涂覆薄膜,通常用来控制基片对入射光束的反射率和透射率,以满足不同的需要,为了消除光学部件表面的反射损耗,提高成像质量,对一种或多种透明介质膜进行了包覆,称为减反射膜或增透膜。



随着激光技术的发展,对薄膜的反射率和透光率提出了不同的要求,促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展,根据各种应用需要,采用高反射膜制备了偏振反射膜、彩色光谱膜、冷光膜和干涉滤光片,在光学部件表面涂覆后,光在膜层上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制薄膜的折射率和厚度,获得不同的强度分布,这是干涉涂层的基本原理。


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